工業(yè)純水設(shè)備的系統(tǒng)零件選擇確實會受到地區(qū)進(jìn)水水質(zhì)（自來水或地下水）以及出水水質(zhì)電阻率等因素的影響。

　　不同的水質(zhì)條件和出水要求，會導(dǎo)致選擇不同的系統(tǒng)零件型號和配置。例如，進(jìn)水水質(zhì)中的雜質(zhì)含量、硬度、pH值等因素，都會影響預(yù)處理系統(tǒng)的選擇和配置；而出水水質(zhì)的要求，如電阻率、微生物含量等，則會影響后續(xù)處理系統(tǒng)（如反滲透系統(tǒng)、EDI裝置等）的選擇和配置。

　　純水設(shè)備水處理工藝流程

　　純水設(shè)備水處理工藝流程是一個典型的工業(yè)純水制備流程，包括預(yù)處理、反滲透、EDI裝置等多個環(huán)節(jié)。以下是對各個環(huán)節(jié)的簡要說明：

　　預(yù)處理：預(yù)處理系統(tǒng)的主要目的是去除水中的懸浮物、膠體、有機(jī)物等雜質(zhì)，以減輕后續(xù)反滲透系統(tǒng)的壓力。常用的過濾器設(shè)備有活性炭過濾器、錳沙過濾裝置、石英沙過濾裝置等。

　　反滲透：反滲透系統(tǒng)是純水設(shè)備中的核心部分，通過高壓將水分子通過反滲透膜分離出來，同時去除水中的溶解鹽、有機(jī)物、微生物等雜質(zhì)。二級反滲透裝置通常用于提高出水水質(zhì)。

　　中間水箱和水泵：中間水箱用于儲存反滲透系統(tǒng)產(chǎn)生的純水，水泵則用于將純水輸送到后續(xù)處理系統(tǒng)。

　　EDI裝置：EDI（電去離子）裝置是一種利用電場作用將水中的離子去除的設(shè)備，通常用于進(jìn)一步提高純水的電阻率。

　　純化水箱和純水泵：純化水箱用于儲存EDI裝置產(chǎn)生的純水，純水泵則用于將純水輸送到后續(xù)處理系統(tǒng)或用水對象。

　　紫外線殺菌器：紫外線殺菌器用于殺滅純水中的微生物，確保出水水質(zhì)的安全。

　　拋光混床：拋光混床是一種用于去除純水中微量離子的設(shè)備，通常用于提高出水水質(zhì)的純度。

　　0.2或0.5μm精密過濾器：精密過濾器用于去除純水中的微小顆粒和微生物，確保出水水質(zhì)的清潔度。

　　常見系統(tǒng)零件

　　您所列舉的常見系統(tǒng)零件包括預(yù)處理系統(tǒng)、水處理系統(tǒng)、反滲透系統(tǒng)和消毒系統(tǒng)等。這些系統(tǒng)零件的選擇和配置應(yīng)根據(jù)具體的水質(zhì)條件和出水要求來確定。例如，反滲透膜的選擇應(yīng)根據(jù)進(jìn)水水質(zhì)、出水水質(zhì)要求以及膜的性能參數(shù)來確定；消毒系統(tǒng)的選擇則應(yīng)根據(jù)出水水質(zhì)要求以及消毒設(shè)備的性能參數(shù)來確定。

　　總結(jié)

　　工業(yè)純水設(shè)備的系統(tǒng)零件選擇和工藝流程設(shè)計是一個復(fù)雜的過程，需要綜合考慮多種因素。在實際應(yīng)用中，應(yīng)根據(jù)具體的水質(zhì)條件和出水要求，來確定系統(tǒng)零件的選擇和配置，以確保純水設(shè)備的穩(wěn)定運行和出水水質(zhì)的安全可靠。同時，還需要定期對純水設(shè)備進(jìn)行維護(hù)和保養(yǎng)，以延長設(shè)備的使用壽命和提高出水水質(zhì)。